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            產品詳細頁
            反射鏡,輸出耦合器和鏡頭

            反射鏡,輸出耦合器和鏡頭

            • 產品型號:
            • 更新時間:2025-12-17
            • 產品介紹:反射鏡,輸出耦合器和鏡頭
              Ø根據客戶要求開發和生產特定組件,例如分束器和可變衰減器
              Ø單波長增透膜,剩余反射率在AOI = 0°時R <0.25%,在AOI = 45°時R <0.6%(非偏振光)
              Ø寬帶和多波長增透膜
            • 廠商性質:經銷商
            • 在線留言

            產品介紹

            品牌其他品牌價格區間面議
            組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

            反射鏡,輸出耦合器和鏡頭


            圖1:隨機偏光(a)的反射鏡(AOI = 45°)在193 nm下的測量的反射率和透射光譜(a)和在兩面都涂有193 nm氟化物AR涂層的CaF2窗口(b)

            Ø所有氟化物系統均確保高反射率和高損傷閾值

            ØPR涂層的公差為:

            ر 2% for R = 10 ... 30 %

            ر 3% for R = 30 ... 75 %

            ر 2% for R = 75 ... 90 % and

            ر 1% for R > 90 %

            ØCaF2(肖特公司193nm受激準分子級)和熔融石英的高質量鏡面基板,窗口片和透鏡

            Ø根據客戶要求開發和生產特定組件,例如分束器和可變衰減器

            Ø單波長增透膜,剩余反射率在AOI = 0°時R <0.25%,在AOI = 45°時R <0.6%(非偏振光)

            Ø寬帶和多波長增透膜

            可變衰減器


            圖2:在不同的AOI(a)和透射率與AOI(b)下測得的可變衰減器的透射率光譜; 透射率從AOI = 0°時的T> 88%到AOI = 45°時的T <2%

            Ø可根據要求提供不同傳輸范圍的衰減器

            Ø衰減器可以與CaF2熔融石英的AR涂層補償板一起提供

            鋁反射鏡


            圖3:優化了針對193nm的受保護Al鏡(a)和針對193nm的增強Al鏡(AOI = 45°(b))的測量反射光譜

            增強鋁鏡:Rp
            > 93%
            Rs
            > 99%
            Rr
            > 96%

            有關鋁鏡的更多信息,請參見目錄中的96-97頁。

             

            標準ArF激光元件的技術參數

            Coating

            Substrate

            Damage threshold*

            Lifetime test

                

            Fluoride coatings

               

            AR (0°, 193nm) R < 0.25%

            CaF2

            4 – 5 J/cm2

            2.5 x 108
            pulses, no damage**

            AR (0°, 193nm) R < 0.25%

            fused silica

            2 – 3 J/cm2

             

            PR (0°, 193nm) R = 25%

            CaF2

            3 – 4 J/cm2

            2.5 x 108
            pulses, no damage**

            PR (0°, 193nm) R = 50%

            CaF2

            2 – 3 J/cm2

            109
            pulses***

            HR (0°, 193nm) R > 96%

            CaF2

            2 – 3 J/cm2

            109
            pulses***, no damage
            1010
            pulses****, no damage
            4 x 109
            pulses*****, no damage

            HR (45°, 193nm) R > 95% (random polarized)

            CaF2

            2 – 3 J/cm2

             

            Oxide coatings

               

            HR (0°, 193nm) R>92%

            fused silica

            <1 J/cm2

             

            1)1000 - on -1,14 ns; 在Laser LaborGöttingen和Friedrich-Schiller - Jena大學進行了測量

            2)能量密度:18mJ / cm 2,重復頻率:4kHz,脈沖持續時間:30ns; 在哥德根的COHERENT AG進行測試

            3)能量密度:55mJ / cm 2,重復率:1kHZ,脈沖持續時間15ns; 在慕尼黑的COHERENT AG進行測試

            4)能量密度:27mJ / cm 2,重復頻率:4kHz,脈沖持續時間:30ns; 在哥德根的COHERENT AG進行測試

            5)能量密度:80mJ / cm 2,重復頻率:1kHz,脈沖持續時間:12ns; 在慕尼黑的COHERENT AG進行測試

            反射鏡,輸出耦合器和鏡頭


            圖1:157nm的激光鏡(AOI = 0°,a)和轉向鏡(AOI = 45°,b)的測量反射率和透射光譜

            Ø激光鏡:AO = 0°時R = 92 ... 95%

            Ø轉向鏡(AOI = 45°):

            ØRs
            > 97%

            ØRp
            > 90%

            ØRr
            > 92%

            ØCaF2的高品質鏡面基板,窗口片和鏡片(肖特公司157nm受激準分子級品質)

            Ø具有公差的PR涂層

            ر 2 % for R = 10 ... 30 %

            ر 3 % for R = 30 ... 75 % and

            ر 2 % for R = 75 ... 90 %

            Ø根據客戶要求開發和生產特定組件,例如分束器和可變衰減器


            圖2:標準輸出耦合器在R = 50±3%和R = 25±2%時測得的反射光譜(背面未鍍膜)

            可變衰減器


            圖3:可變衰減器在不同AOI(a)和透射率與AOI(b)下測得的透射光譜透射率從AOI = 0°時的T> 75%到AOI = 45°時的T <5%

            F2激光鋁鏡


            圖4:受保護的Al鏡(a)和增強型Al鏡在157nm下的反射光譜(b)

            受保護的鋁鏡(針對157nm進行了優化):R = 74 ... 78%

            電介質增強型鋁鏡:AOI = 0°時R = 94%

            有關鋁鏡的更多信息,請參閱我們的目錄中的第96 - 97頁。

            標準F2激光組件的技術數據

            Coating

            Spectral performance

            Lifetime test

            HR (0°, 157nm)

            R = 92 ... 95 %

            2 x 108
            – 1 x 109
            pulses*

            HR (45°, 157nm)

            R = 90 ... 94 % (random pol.)

             

            PR (0°, 157nm)

            R = 50 ± 3 %

            2 x 108
            – 1 x 109
            pulses*

            PR (0°, 157nm)

            R = 25 ± 3 %

            2 x 108
            – 1 x 109
            pulses*

            Attenuator

            T = 67 ± 3 %

            5 x 107
            pulses**, no damage

            Attenuator

            T = 33 ± 3 %

            1 x 108
            pulses***, no damage

            Beam splitter

            T = 20 ± 3 %

            1 x 108
            pulses***, no damage

            AR (0°, 157nm)

            0.3 ... 0.7 %

             

            *能量密度:25mJ / cm2,重復頻率:800Hz,脈沖持續時間:15ns; 在慕尼黑的COHERENT AG進行測試

            **能量密度:15mJ / cm 2,速率:200Hz,脈沖持續時間:20ns; 在光電技術研究所(IPHT)耶拿研究所進行測試

            ***能量密度:20 mJ / cm2,速率:50Hz,脈沖持續時間:20ns; 在光電技術研究所(IPHT)耶拿研究所進行測試

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