優(yōu)質(zhì)基材

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更新時(shí)間：2025-12-17
產(chǎn)品介紹：腔衰蕩時(shí)間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)基材的特點(diǎn)是：
Ø準(zhǔn)確的幾何形狀：有關(guān)直徑，厚度，折痕或曲率半徑等幾何特性的公差，請(qǐng)參見(jiàn)我們目錄
Ø表面形狀公差
Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量
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產(chǎn)品介紹

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優(yōu)質(zhì)基材

腔衰蕩時(shí)間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)基材的特點(diǎn)是：

Ø準(zhǔn)確的幾何形狀：有關(guān)直徑，厚度，折痕或曲率半徑等幾何特性的公差，請(qǐng)參見(jiàn)我們目錄的第12頁(yè)

Ø表面粗糙度

Ø表面形狀公差

Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量

LAYERTEC針對(duì)所有這些參數(shù)優(yōu)化了拋光程序。在下文中，我們就會(huì)展示使用熔融二氧化硅和氟化鈣可獲得的出色結(jié)果。

規(guī)格

表面粗糙度

ØRMS-熔融石英和氟化鈣的平面基板的粗糙度<1.5Å

Ø在光滑彎曲的球形熔融石英表面上得到相似的結(jié)果（取決于直徑和曲率半徑的比率）

Ø即使在紫外線范圍內(nèi)，基材的散射損耗也非常低：

ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)

ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm

Ø即使在DUV / VUV波長(zhǎng)范圍內(nèi)也適用于低損耗光學(xué)元件

高質(zhì)量拋光熔融石英基板的功率譜密度（PSD）曲線（在FhG IOF Jena上執(zhí)行的測(cè)量）

高質(zhì)量拋光CaF2基板（在FhG IOF Jena執(zhí)行）的3D AFM測(cè)量，均方根粗糙度0.12nm

表面形狀公差

表面質(zhì)量

Material	ISO 10110 (∅25mm)	Approximately equivalent to MIL-O-13830
Fused Silica	5/1x 0.010 L1x 0.0005	Scratch - Dig 5 - 1
CaF2	5/1x 0.016 L1x 0.0010	Scratch - Dig 10 - 2