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            技術文章

            紅外吸收光譜的應用

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            紅外吸收光譜

            大多數材料會吸收紅外光譜區域中波長為0.8 µm至14 µm的電磁輻射,這些波長是材料分子結構的特征。 紅外吸收光譜法是一種常見的化學分析工具,用于測量已穿過樣品的紅外光束的吸收率。 紅外光譜中吸收峰的位置(圖1)是樣品化學成分或純度的特征,吸收峰的強度與該峰為特征的物質的濃度成正比。


            圖1.各種氣體和蒸氣的紅外透射光譜。

             

            紅外光譜可用于氣體,液體,糊劑,粉末,薄膜和表面的定性和定量無損分析。分子的吸收光譜提供了*的吸光度“指紋”,可用于推斷樣品的化學成分和物種濃度。圖1顯示了在煙囪排放監測應用中常規測量的某些氣體的紅外吸收光譜。可以看到每種標記的氣體種類都表現出*的IR吸收模式。

            紅外光譜儀通常由寬帶紅外光源,波長分離裝置和檢測器組成,如圖2所示。液體或氣體樣品通常包含在樣品池中??梢允褂梦展庾V法或反射光譜法在原位或在支架測量系統中對固體樣品進行分析,也可以將粉末狀樣品壓制成圓片,用IR透明材料稀釋或將其稀釋成糊狀,通常稱為糊狀。


            圖2.紅外光譜儀的主要組件

             

            紅外光譜儀

            用于常規化學識別和定量測量的流行紅外光譜儀包括:基于光柵的/分散式IR光譜儀,FTIR光譜儀以及基于濾光片的或非分散式IR(NDIR)儀器。特定應用的光譜儀選擇受諸如靈敏度,基質復雜性,包裝和成本要求之類的要求驅動。

            色散或光柵光譜儀

            色散光譜儀(圖3)使用光柵來分散和分離寬帶光的波長。色散光譜儀有兩種類型:單色儀和光譜儀。前者使用單元件光電探測器和旋轉光柵組件,而后者使用固定光柵組件和光電探測器陣列。色散光譜儀的優勢在于其簡單易用,可實現硬件小型化,同時保留掃描相對較寬光譜范圍的能力。但是,與FTIR或NDIR儀器相比,吞吐量(或光學擴展量)受限制,因為只有一小部分源光終落在光電探測器上。因此,色散光譜儀通常用于VIS和NIR光譜區域,而不是用于輻射具有較低光子能量的MIR區域。


            圖3.單色儀(左)和光譜儀(右)的簡化示意圖。

             

            FTIR光譜儀

            FTIR光譜儀(圖4)通過使用干擾在時域中調制IR輻射來生成光譜,以產生干涉圖,然后對其進行傅立葉變換。 在FTIR中常用的邁克爾遜干涉儀中,使用分束器(部分反射鏡)將入射光束分成兩個相同的光束。 這些光束中的每一個都經過不同的路徑,并且在到達檢測器之前被重新組合。 路徑差,即每個光束傳播的距離之差,會在它們之間產生相位差。 該重新組合的光束是干涉圖,即作為路徑差的函數的調制信號。 對干涉圖執行傅立葉變換會產生入射光束的光譜。


            圖4.帶有基本邁克爾遜干涉儀的FTIR簡化示意圖。

            FTIR光譜儀比傳統的分散光譜儀具有多個優勢。首先,它可以在很寬的波長范圍內進行快速測量。 MKS MultiGas™FTIR分析儀等現代FTIR儀器可在200毫秒內完成掃描。每次掃描時,它會覆蓋大約2 µm至16 µm的整個MIR波長范圍,具體取決于光學器件的材料和儀器中使用的光電探測器的類型。其次,也許是重要的事實是FTIR光譜儀具有很高的光通量或光學擴展量。 FTIR不使用狹縫來控制儀器的波長分辨率。結果,在相同條件下,FTIR光譜儀產生的光譜通常比色散光譜儀產生的光譜“更陡峭”。這在定量分析中很重要,在定量分析中,SNR通常確定測量的靈敏度。 FTIR光譜儀的另一個優點是其波長精度和穩定性。 FTIR光譜儀通常使用激光來控制移動鏡的位置和速度,并在整個掃描過程中觸發數據點的收集。精心設計的FTIR儀器可提供非常高的單元間可重復性,而無需進行麻煩且昂貴的單個單元校準。

            非色散紅外(NDIR)分析儀

            NDIR分析儀是針對特定測量應用而設計的基于濾波器的儀器。例如,NDIR分析儀是用于測量煙囪排放監控中CO和CO2濃度的行業標準方法。 NDIR儀器通常不捕獲波長并生成光譜,而是捕獲與被測化學物質相關的離散波長的吸收。它們通過采用在選定的窄帶區域透射光的光學濾波器來實現。圖5顯示了NDIR儀器的基本概念。


            圖5. NDIR的基本框圖,顯示了其主要組成部分。

            NDIR儀器中使用的濾波器通常是干涉型,稱為“標準具”,本質上是Fabry-Perot干涉儀。它通常由分隔兩個薄膜反射器的薄膜墊片制成。在標準具中會產生波干擾,同相的波會相長地干涉并通過濾波器傳輸。其余的波具有相消干擾,因此被“阻止”。寬帶紅外源通常是由加熱的燈絲(例如鎢或Kanthal)產生的黑體輻射。

            NDIR儀器的主要優點是其硬件簡單。這使NDIR儀器既低成本又堅固耐用,使其非常適合工業應用。 MKS Process Sense™是半導體工藝應用中使用的NDIR分析儀的一個示例。

            可調濾波器光譜儀(TFS™)

            TFS™光譜儀是指提供波長掃描功能的MKS NDIR儀器。通常通過調節法布里-珀羅元件中兩個薄膜反射器之間的間隙距離來實現波長掃描。 MKS的TFS™光譜儀通過旋轉濾光片來調節光的入射角,從而調節間隙距離。如圖6所示,隨著入射角的調整,濾光片的透射波長也隨之改變。隨著入射角的增加,透射掃描到更低的波長。


            圖6. TFS光譜儀的概念。入射角的變化(左)會產生變化的波長透射率(右)

             

            使用MKS產品的紅外光譜應用

            MKS Instruments提供了幾種基于紅外光譜的排放和過程監控應用分析工具。

            排放監測

            通常在排放源(例如電廠煙囪和化學制造設施)上需要進行氣體排放監測。準確的監控數據是法規遵從性和環境保護計劃的重要組成部分,旨在控制和調節空氣中的污染物,例如一氧化碳,氮氧化物,二氧化硫和臭氧,以及溫室氣體,例如甲烷和二氧化碳。 MKS的MultiGas™2030系統是基于FTIR的高速,高分辨率的氣體分析儀,旨在在一秒鐘內同時監測30多種排放氣體。

            化學試劑和有毒工業化學檢測

            在安全行業中,對化學試劑和有毒工業化學品的快速可靠檢測的需求不斷增長。 MKS Instruments的基于FTIR的AIRGARD®系統可以在20秒內檢測出大多數化學戰劑(CWA)和有毒工業化合物的十億分之一(ppb)含量。它是行業標準,是對關鍵基礎架構建筑物中的CWA的固定監視。

            半導體工藝監控

            半導體化學氣相沉積工藝腔室必須定期清潔,以去除沉積在腔室壁和內部組件上的堆積物。不同工藝的合適清潔時間取決于變量之間的復雜關系,例如堆積物的厚度,腔室組件的內部溫度,沉積/濺射比以及要去除的材料的化學成分。 MKS的Process Sense™端點傳感器使用NDIR方法實時監控處理室清潔過程中的廢水。例如,Process Sense™監視器與基于氟的腔室清潔過程一起使用,以監視來自用于基于硅的沉積過程(包括多晶硅,二氧化硅和氮化硅)的腔室的副產物四氟化硅(SiF4)。傳感器實時報告腔室流出物中殘留的SiF4含量,從而使用戶能夠快速檢測清潔過程的終點,并避免過度刻蝕腔室組件,這可能導致損壞或其他維護問題。

            碳氫化合物氣體的熱值測量

            燃料的熱值(BTU含量)的數據是優化控制過程的重要參數,例如發電,石化制造和火炬控制。傳統上,氣相色譜(GC)是常用于確定燃料熱值的分析技術。但是,GC分析速度很慢(更新需要幾分鐘),GC儀器通常需要大量維護。 MKS的Precisive®氣體分析儀是業內一臺對烴類氣體進行定量分析的全光學分析儀。 Precisive分析儀采用獲得的TFS™分析儀技術,是一種簡單而堅固的NDIR儀器,可在經常骯臟和危險的工業環境中提供高精度的BTU測量。

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